Ürün Açıklaması
PEES (pEES), asit katalizi altında hızla koruması kaldırılabilen, aside kararsız etoksietoksi koruma grubu taşır. İyi termal stabiliteye ve ultra düşük metal safsızlıklarına sahiptir. Yüksek çözünürlüklü KrF kimyasal olarak güçlendirilmiş fotorezist için polihidroksistiren (PHS) hazırlamak üzere polimerize edilebilir.
Ürün Özellikleri
| Ürün adı | PEES/4-(Etoksietoksi)stiren |
| Kasa Numarası | 157057-20-0 |
| ÜRÜN NO | M120 |
| Dış görünüş | Renksiz berrak sıvı |
| Saflık | %99'dan büyük veya eşit |
| Su İçeriği | %0,05'ten az veya buna eşit |
| Metal iyonu safsızlıkları | 1 ppb'den az veya ona eşit |
| Paket | 100g/1kg/10kg vb. |
| Teslimat | 2-3 gün |
| Depolamak | oda sıcaklığı |
| MSDS/COA/TDS | Bizi bağlayın |
Ürün Uygulaması
PEES (p-(1-Etoksietoksi) stiren) esas olarak yarı iletken mikroelektroniklerde, fonksiyonel polimer malzemelerde ve gelişmiş yeni malzeme Ar-Ge endüstrisinde KrF fotorezist reçine sentezi için kullanılır.
SSS
S: PEES'in depolama gereksinimleri nelerdir?
A: TBC inhibitörüyle stabilize edildi. Işıktan 2~8 derece uzakta, ağzı kapalı olarak saklayın. Vinilin kendi kendine polimerizasyonunu ve asit tarafından erken korumanın kaldırılmasını önlemek için havayı ve ısı kaynağını izole edin.
S: KrF fotorezist reçine sistemindeki PEES monomerinin prensibi nedir?
C: PEES, aside duyarlı etoksietoksi koruma grubu içerir. Litografiye maruz kaldıktan sonra üretilen fotoasit korumanın kaldırılmasını tetikler. Reçine, gofret deseni gelişimini gerçekleştirmek için alkalide çözünmeyenden alkalide çözünüre değişir.
S: SDS'ye göre PEES çalışması için hangi koruma gereklidir?
Cevap: Gözleri, cildi ve solunum yollarını tahriş eder. İşlem çeker ocakta gözlük, solvente dayanıklı eldiven ve yüz siperi ile yapılmalıdır.
S: PEES ve pACS / PTBS fotodirenç monomerleri arasındaki temel fark nedir?
C: PEES, hızlı asit koruma kaldırma oranına sahip etoksietoksi koruma grubuna sahiptir. pACS'nin korumanın kaldırılması için hidrolize ihtiyacı vardır, PTBS'nin tert-butoksi grubu vardır. Farklı fotodirenç hassasiyeti için tasarlanmıştır.
S: KrF fotodirenç maruziyeti sırasında PEES monomerinin asit kararsız koruma grubuna ne olur?
C: Maruz kalındığında fotoasit üretilir. Etoksietoksi koruma grubu hızla parçalanır. Polimer, litografik desen gelişimi için alkalide çözünmeyenden alkalide çözünüre dönüşerek fenolik hidroksil yapısına dönüşür.
Popüler Etiketler: cas no:157057-20-0 pees/4-(etoksietoksi)stiren, Çin cas no:157057-20-0 pees/4-(etoksietoksi)stiren üreticileri, tedarikçileri
